-
დარიშხანის დისტილაციისა და გაწმენდის პროცესი
დარიშხანის დისტილაციისა და გაწმენდის პროცესი არის მეთოდი, რომელიც იყენებს დარიშხანისა და მისი ნაერთების აქროლადობის განსხვავებას გამოყოფისა და გაწმენდისთვის, განსაკუთრებით შესაფერისია დარიშხანში გოგირდის, სელენის, ტელურიუმის და სხვა მინარევების მოსაშორებლად. აქ მოცემულია ძირითადი ნაბიჯები და გასათვალისწინებელი საკითხები: ...დაწვრილებით -
თუთიის ტელურიდი: ახალი გამოყენება თანამედროვე ტექნოლოგიაში
თუთიის ტელურიდი: ახალი გამოყენება თანამედროვე ტექნოლოგიაში Sichuan Jingding Technology Co., Ltd.-ის მიერ შემუშავებული და წარმოებული თუთიის ტელურიდი თანდათან ჩნდება თანამედროვე მეცნიერებისა და ტექნოლოგიების სფეროში. როგორც მოწინავე ფართო ზოლური უფსკრულის მქონე ნახევარგამტარული მასალა, თუთიის ტელურიდმა აჩვენა შესანიშნავი ...დაწვრილებით -
თუთიის სელენიდის ფიზიკური სინთეზის პროცესი ძირითადად მოიცავს შემდეგ ტექნიკურ გზებსა და დეტალურ პარამეტრებს
1. სოლვოთერმული სინთეზი 1. ნედლეულის თანაფარდობა თუთიის ფხვნილი და სელენის ფხვნილი შერეულია 1:1 მოლური თანაფარდობით და გამხსნელ გარემოდ ემატება დეიონიზებული წყალი ან ეთილენგლიკოლი 35. 2. რეაქციის პირობები o რეაქციის ტემპერატურა: 180-220°C o რეაქციის დრო: 12-24 საათი o წნევა: შეინარჩუნეთ t...დაწვრილებით -
კადმიუმის პროცესის ეტაპები და პარამეტრები
I. ნედლეულის წინასწარი დამუშავება და პირველადი გაწმენდა მაღალი სისუფთავის კადმიუმის ნედლეულის მომზადება მჟავით რეცხვა: ზედაპირული ოქსიდების და მეტალის მინარევების მოსაშორებლად, სამრეწველო დანიშნულების კადმიუმის ზოდები ჩაყავით 5%-10%-იან აზოტმჟავას ხსნარში 40-60°C ტემპერატურაზე 1-2 საათის განმავლობაში. ჩამოიბანეთ დეიონიზებული წყლით...დაწვრილებით -
6N ულტრამაღალი სისუფთავის გოგირდის დისტილაციისა და გაწმენდის პროცესი დეტალური პარამეტრებით
6N (≥99.9999% სისუფთავის) ულტრამაღალი სისუფთავის გოგირდის წარმოებას სჭირდება მრავალსაფეხურიანი დისტილაცია, ღრმა ადსორბცია და ულტრასუფთა ფილტრაცია კვალი ლითონების, ორგანული მინარევების და ნაწილაკების მოსაშორებლად. ქვემოთ მოცემულია სამრეწველო მასშტაბის პროცესი, რომელიც აერთიანებს ვაკუუმურ დისტილაციას, მიკროტალღურ ღუმელში დახმარებულ...დაწვრილებით -
ხელოვნური ინტელექტის კონკრეტული როლები მასალების გაწმენდაში
I. ნედლეულის სკრინინგი და წინასწარი დამუშავების ოპტიმიზაცია მაღალი სიზუსტით მადნის დახარისხება: ღრმა სწავლებაზე დაფუძნებული გამოსახულების ამოცნობის სისტემები რეალურ დროში აანალიზებენ მადნების ფიზიკურ მახასიათებლებს (მაგ., ნაწილაკების ზომა, ფერი, ტექსტურა), რაც ხელით დახარისხებასთან შედარებით შეცდომის 80%-ზე მეტ შემცირებას აღწევს. მაღალი...დაწვრილებით -
ხელოვნური ინტელექტის მაგალითები და ანალიზი მასალების გაწმენდაში
1. ინტელექტუალური აღმოჩენა და ოპტიმიზაცია მინერალური გადამუშავების სფეროში მადნის გაწმენდის სფეროში, მინერალური გადამამუშავებელი ქარხანა დანერგავს ღრმა სწავლებაზე დაფუძნებული გამოსახულების ამოცნობის სისტემას მადნის რეალურ დროში გასაანალიზებლად. ხელოვნური ინტელექტის ალგორითმები ზუსტად განსაზღვრავს მადნის ფიზიკურ მახასიათებლებს (მაგ., ზომა...დაწვრილებით -
ზონალური დნობის ტექნოლოგიის ახალი მიღწევები
1. მაღალი სისუფთავის მასალების მომზადების მიღწევები სილიციუმის ბაზაზე დამზადებული მასალები: სილიციუმის მონოკრისტალების სისუფთავემ გადააჭარბა 13N-ს (99.9999999999%) მცურავი ზონის (FZ) მეთოდის გამოყენებით, რამაც მნიშვნელოვნად გააუმჯობესა მაღალი სიმძლავრის ნახევარგამტარული მოწყობილობების (მაგ., IGBT) და მოწინავე... მუშაობა.დაწვრილებით -
მაღალი სისუფთავის ლითონების სისუფთავის დეტექციის ტექნოლოგიები
ქვემოთ მოცემულია უახლესი ტექნოლოგიების, სიზუსტის, ხარჯებისა და გამოყენების სცენარების ყოვლისმომცველი ანალიზი: I. უახლესი დეტექციის ტექნოლოგიები ICP-MS/MS შეერთების ტექნოლოგია პრინციპი: იყენებს ტანდემურ მას-სპექტრომეტრიას (MS/MS) მატრიცული ინტერფერენციის აღმოსაფხვრელად, ოპტიმალურ...დაწვრილებით -
7N ტელურიუმის კრისტალების ზრდა და გაწმენდა
7N ტელურიუმის კრისტალების ზრდა და გაწმენდა https://www.kingdchem.com/uploads/芯片旋转.mp4 I. ნედლეულის წინასწარი დამუშავება და წინასწარი გაწმენდა ნედლეულის შერჩევა და დამსხვრევა მასალის მოთხოვნები: გამოიყენეთ ტელურიუმის მადანი ან ანოდური შლამი (Te შემცველობა ≥5%), სასურველია სპილენძის დნობა...დაწვრილებით -
7N ტელურიუმის კრისტალების ზრდისა და გაწმენდის პროცესის დეტალები ტექნიკური პარამეტრებით
7N ტელურიუმის გაწმენდის პროცესი აერთიანებს ზონური რაფინირებისა და მიმართულებისმიმართული კრისტალიზაციის ტექნოლოგიებს. პროცესის ძირითადი დეტალები და პარამეტრები ქვემოთ არის მოცემული: 1. ზონალური რაფინირების პროცესის აღჭურვილობის დიზაინი მრავალშრიანი რგოლური ზონური დნობის ნავები: დიამეტრი 300–500 მმ, სიმაღლე 50–80 მმ, დამზადებულია...დაწვრილებით -
მაღალი სისუფთავის გოგირდი
დღეს ჩვენ განვიხილავთ მაღალი სისუფთავის გოგირდს. გოგირდი გავრცელებული ელემენტია მრავალფეროვანი გამოყენებით. ის გვხვდება დენთში („ოთხი დიდი გამოგონებიდან“ ერთ-ერთი), გამოიყენება ტრადიციულ ჩინურ მედიცინაში მისი ანტიმიკრობული თვისებების გამო და გამოიყენება რეზინის ვულკანიზაციაში მასალის გასაუმჯობესებლად...დაწვრილებით
